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日本民族素以善于自我包装闻名，其在国际上塑造的彬彬有礼、纪律严明、讲道理的形象深入人心。然而，某些根植于行为模式深处的特质，纵使精心修饰，终有显露之时。
昨日，台积电曝出重大消息：公司内部员工勾结日本企业“东京电子”，意图窃取其最先进的2nm芯片生产技术！
这一丑闻，无疑撕开了日本光鲜外表下最真实的一面。
要理解这一事件的冲击力，不妨先回顾下日本芯片产业的兴衰。
上世纪80年代，日本在芯片制造领域一度领跑全球，但自上世纪 90 年代起，受美国刻意打压及自身技术路线选择（如坚持不采用 “浸润式光刻” 技术）的影响，其先进制程能力逐渐落后。
如今，在全球芯片先进制程的竞赛中，日企已难觅身影，仅在少数细分领域尚存竞争力。
就在这样的背景下，上个月，日本半导体企业 “东京电子” 突然宣布 “计划 2027 年实现 2nm 芯片量产”。
这一消息的震撼程度，不亚于 “某国宣布 2027 年推出首台国产 EUV 光刻机”—— 要知道，目前技术最领先的台积电计划于今年年底量产 2nm 芯片，三星预计明年年中，英特尔甚至仍在 3nm 制程摸索中。对于沉寂了 20 余年的日本芯片产业而言，这样的 “跨越式目标” 难免令人生疑。
起初，行业内多将其视为企业 “放卫星” 式的宣传，除少数吹捧 “日本工匠精神” 的声音外，多数专家并未过多关注。
直到台积电的窃密事件曝光，人们才恍然大悟：东京电子的 “底气”，竟源于非法手段。
据了解，东京电子雇佣了一名台积电的前员工，由他做联络人，向新竹台积电总部的两名工程师下达指令，拍摄了至少400张台积电试产2nm芯片的照片，传回了日本国内，以便搞清工艺流程。目前，三名涉案员工已被羁押，另有两名下载文字资料的员工取保候审。
按照日本企业过往的公关套路，或许不久后东京电子就会召开新闻发布会，以一场 “诚恳” 的鞠躬道歉试图了结此事。但这种流于形式的歉意，真能弥补技术窃密造成的损害吗？恐怕不过是 “认错快、再犯也快” 的循环重演。
更值得深思的是台积电的保密体系。其保密措施向来以 “铜墙铁壁” 著称：例如在大陆的工厂，工艺流程需由台湾省总部在生产前临时发送至机台，生产结束后自动删除，几乎做到了极致。为何此次会被几名员工轻易突破，让数百张核心照片流出？
表层看是管理疏漏，深层则可能与历史遗留的思想误区有关。台湾曾长期遭受日本殖民统治，部分人对日本抱有莫名好感，极端分子甚至将日本视为 “祖国”。
在这些人眼中，向日本 “传递” 技术或许不算 “窃密”，反成了所谓的 “共享”。这种渗透在思想里的 “殖民遗毒”，比技术窃密本身更令人警惕 —— 它模糊了国家认同的边界，削弱了守护核心利益的意志。
这种“亲日情结”的危害，远不止于一次技术泄露。试想，如果窃密者面对的是其他国家，他们还会如此“心甘情愿”地配合吗？答案不言自明。
